Depuis plus de 20 ans, les miroirs multicouches XUV (domaine spectrale de 1 à 60 nm couvrant le rayonnement X mou et extrême ultraviolet) sont devenus des composants optiques incontournables dans de nombreux domaines scientifiques et technologiques : optiques pour rayonnement synchrotron, optiques pour les nouvelles sources X (Génération d'harmoniques, laser X), diagnostiques de plasma chaud (projet laser MégaJoule), physique solaire (télescopes imageurs EUV), microscopie X, lithographie EUV, analyse X, etc. Ils constituent en fait l'unique moyen d'obtenir des optiques efficaces fonctionnant à des angles d'incidence non rasants dans la gamme spectrale XUV. Après une brève introduction sur l'historique des optiques multicouches EUV, nous présenterons un état de l'art des télescopes EUV en fonctionnement aujourd'hui. Nous détaillerons ensuite quelques exemples d'avancée récente en conception, réalisation et caractérisation des miroirs multicouches dans le domaine EUV : empilement à trois matériaux par période, empilement multi-périodique, étude de nouvelles combinaisons de matériaux...