Abrasive-free chemical-mechanical planarization (CMP) of gold for thin film nano-patterning - Institut d'Optique Graduate School
Article Dans Une Revue Nanoscale Année : 2024

Abrasive-free chemical-mechanical planarization (CMP) of gold for thin film nano-patterning

Raphael Gherman
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Guillaume Beaudin
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Romain Stricher
  • Fonction : Auteur
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Jean-François Bryche
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
CV
Pierre Levesque
Institute for Quantum Computing [Waterloo]
François Fillion-Gourdeau
Institute for Quantum Computing [Waterloo]
Infinite Potential Labs
Steve G Maclean
  • Fonction : Auteur
Institute for Quantum Computing [Waterloo]
Infinite Potential Labs
Énergie Matériaux Télécommunications - INRS
Dominique Drouin
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Paul G Charette
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Serge Ecoffey
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]

Résumé

This 5 × 3 mm 2 photograph shows the vibrant colors reflected by a nanostructured gold surface made by CMP. Each 20 × 20 μm 2 pixel is a mosaic of gold nanocubes with different dimensions, creating this colorful image of the gold CMP damascene technique.

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]
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Soumis le : samedi 16 novembre 2024-16:48:37

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-08:41:59

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Citer

Raphael Gherman, Guillaume Beaudin, Romain Stricher, Jean-François Bryche, Pierre Levesque, et al.. Abrasive-free chemical-mechanical planarization (CMP) of gold for thin film nano-patterning. Nanoscale, 2024, 16 (36), pp.16861-16869. ⟨10.1039/d4nr02610a⟩. ⟨hal-04786939⟩

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